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J-GLOBAL ID：201402259070531556   整理番号：14A0367795

ポスト化学機械平坦化洗浄の際のコバルトに対する不動態化剤としての1,2,4-トリアゾールの役割

Role of 1,2,4-Triazole as a Passivating Agent for Cobalt during Post-Chemical Mechanical Planarization Cleaning

著者 (6件)： ZHONG Mingjie (Clarkson Univ., NY, USA) ,  VENKATARAMAN Shyam S. (BASF SE, Ludwigshafen, DEU) ,  LAN Yongqing (BASF SE, Ludwigshafen, DEU) ,  LI Yuzhuo (Clarkson Univ., NY, USA) ,  LI Yuzhuo (BASF SE, Ludwigshafen, DEU) ,  SHIPP Devon A. (Clarkson Univ., NY, USA)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 161  号： 3  ページ： C138-C144  発行年： 2014年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超LSI技術に関連する銅(Cu)相互配線に対しては,バリア材料の候補としてコバルト(Co)があげられる。しかし,CoがCuよりも卑であるため,ポスト化学機械平坦化(CMP)洗浄の段階では,Coの腐食およびCoとCu間のガルバニ腐食が起こる可能性があった。本研究では,これらの腐食を抑制するための腐食抑制剤として,1,2,4-トリアゾール(TAZ)の効果について調べた。著者らはCoおよびCu表面がTAZをベースとする溶液に曝されるモデル系を調べた。実際には,クエン酸とTAZを含有するポストCMP洗浄溶液中でのCoおよびCuの腐食挙動を,溶解速度測定および電気化学的測定によって調べた。その結果,TAZはCo表面を,物理吸着および化学吸着を経て不動態化することが示された。吸着挙動はLangmuirの吸着等温式に従った。また,TAZは選択的にCo酸化物表面上に不動態膜を形成した。

シソーラス用語： *窒素複素環化合物 ,  *コバルト ,  *銅 ,  配線 ,  超LSI ,  化学研磨 ,  洗浄 ,  *電池作用腐食 ,  *腐食抑制剤 ,  不動態化 ,  添加剤 ,  添加物効果 ,  溶液 ,  溶解速度 ,  *脂肪族カルボン酸 ,  腐食機構 ,  表面 ,  物理吸着 ,  化学吸着 ,  機構 ,  吸着等温式 ,  結合部位 ,  選択性 ,  不動態皮膜 ,  Tafel式 ,  X線光電子スペクトル ,  浸漬 ,  脂肪族アルコール ,  ヒドロキシ酸 ,  ポリカルボン酸 ,  化学機械研磨
準シソーラス用語： Langmuirの吸着等温式 ,  化学機械平坦化 ,  吸着サイト ,  吸着機構 ,  金属表面 ,  酸化物表面 ,  相互配線 ,  不動態化剤 ,  腐食挙動

分類 (4件)： トリアゾール  (CF07084O) ,  電極過程  (CB07040U) ,  防食  (WB03040M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： 1,2,4-トリアゾール ,  クエン酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学機械平坦化 ,  洗浄 ,  コバルト ,  不動態化 ,  トリアゾール ,  役割