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J-GLOBAL ID：201402260067713218   整理番号：14A0371551

ミニマルCVDプロセスによるシリコン薄膜成長

著者 (11件)： 池田伸一 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  池田伸一 (産業技術総合研) ,  石田夕起 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  石田夕起 (産業技術総合研) ,  三ケ原孝則 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  中戸克彦 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  羽深等 (横浜国大) ,  KHUMPUANG Sommawan (ミニマルファブ技術研究組合) ,  KHUMPUANG Sommawan (産業技術総合研) ,  原史朗 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  原史朗 (産業技術総合研)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 61st  ページ： ROMBUNNO.19P-E14-17  発行年： 2014年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  *化学蒸着 ,  *ケイ素 ,  *薄膜成長 ,  半導体薄膜 ,  ケイ素化合物 ,  塩化ケイ素 ,  熱分解 ,  多結晶 ,  X線回折 ,  X線光電子分光法 ,  トリクロロシラン

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： CVD ,  プロセス ,  シリコン ,  薄膜成長