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J-GLOBAL ID:201402264911512008   整理番号:14A0888207

微小重力環境下での溶液移動帯域法によるSiGe結晶育成の数値シミュレーション

Numerical simulations of SiGe crystal growth by the traveling liquidus-zone method in a microgravity environment
著者 (8件):
資料名:
巻: 402  ページ: 71-77  発行年: 2014年09月15日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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最近,国際宇宙ステーション(ISS)の微小重力条件下で,Si1-xGex(約x=0.5)結晶を溶液移動帯域法(TLZ)法によって育成した。本研究では,TLZ結晶育成の数学的モデルを開発して,ISSで行ったSiGe結晶のTLZ結晶育成時に発生した輸送と凝固の現象を詳細に調査した。本モデルを用いて,育成したSiGe結晶中のGe濃度の実験的分布を説明した。そして,結晶育成時の酸化による金属カートリッジ表面の放射率の変化が,育成中のGe濃度分布に強く影響を及ぼすことが明らかになった。さらに,現在の実験で得られた結晶よりも均質なSiGe結晶を育成させる戦略を数値結果に基づいて提案した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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半導体の結晶成長 

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