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J-GLOBAL ID：201402271424635966   整理番号：14A0484302

プラズモン増強場を用いた表面化学反応

著者 (1件)： 上野貢生 (北大 電子科研)
資料名： 日本表面科学会東北・北海道支部講演会講演予稿集  (日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集)
巻： 2013  ページ： 6  発行年： 2014年03月10日 
JST資料番号： F1026A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズモン ,  *電場 ,  *強化 ,  *金 ,  *ナノ構造 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  電子ビームリソグラフィー ,  微細加工 ,  スピンコーティング ,  材料 ,  *二光子過程 ,  *光化学反応 ,  *表面反応 ,  ガラス基板
準シソーラス用語： *光電場 ,  *増強 ,  電子線リソグラフィー ,  リフトオフ法 ,  レジスト材料

分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体デバイス材料  (NC03020K) ,  固体プラズマ  (BM02160W) ,  分子と光子の相互作用  (BH06120R)

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズモン ,  増強 ,  表面化学反応