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J-GLOBAL ID：201402273136956246   整理番号：14A0289882

電子ビームレジストマスク上にRFマグネトロンスパッタリング法で堆積させた二酸化チタン微細構造

Titanium dioxide fine structures by RF magnetron sputter method deposited on an electron-beam resist mask

著者 (3件)： HASHIBA Hideomi (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  MIYAZAKI Yuta (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  MATSUSHITA Sachiko (Tokyo Inst. Technol., Tokyo)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8816  ページ： 88161F.1-88161F.6  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化チタン(TiO₂)はその触媒活性と赤外領域における高い屈折率から広範囲の光学用途に利用されている。TiO₂薄膜は様々な方法で作製される。本研究では,ZEP電子ビームレジストマスクとTiスパッタ蒸着法を用いて,FTO(弗素ドープ酸化錫)ガラス基板上に厚み150nmのTiO₂微細構造を作製した。二次元構造は完全なフォトニックバンドギャップを有した。蒸着中,Ar/酸素比を2:1に保った。蒸着速度は約0.5Å/sであった。焼なましにより膜のアナターゼとルチルの結晶化を観測した。

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *酸化チタン ,  *薄膜成長 ,  微細構造 ,  *結晶 ,  フォトニックバンドギャップ ,  結晶成長 ,  焼なまし ,  電子顕微鏡観察 ,  結晶化 ,  *フォトニック結晶 ,  *二酸化チタン
準シソーラス用語： X線回折パターン

分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ビームレジスト ,  マスク ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  二酸化チタン ,  微細構造