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J-GLOBAL ID：201402284648714076   整理番号：14A1203655

ゾル-ゲル法による高性能な積層型透明導電性酸化物薄膜

Sol-Gel-Derived High-Performance Stacked Transparent Conductive Oxide Thin Films

著者 (8件)： SUGAHARA Tohru (Inst. of Scientific and Industrial Res., Osaka Univ., 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka, 567-0047, JPN) ,  HIROSE Yukiko ,  CONG Shuren ,  KOGA Hirotaka ,  JIU Jinting ,  NOGI Masaya ,  NAGAO Shijo ,  SUGANUMA Katsuaki
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 97  号： 10  ページ： 3238-3243  発行年： 2014年10月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高性能,良好な充填密度及び小さな表面/界面粗さを示す単層と多層の透明導電性酸化物(TCO)薄膜をゾル-ゲル法により石英ガラス基板上に堆積させた。TCO薄膜の結晶特性と微細構造特性を超高真空蒸着法で作製した膜の代替として評価した。二段階乾燥プロセスを用いて製造したスズをドープした酸化インジウム(ITO)薄膜は水平だけでなく垂直方向にも緻密な充填構造のため,小さな表面粗さを示した。その結果,電気伝導度,キャリア濃度,キャリア移動度及び光透過率は各々,2.3×10³S/cm,8×10²⁰cm^-3,18cm²/Vs及び500nmで98%以上を示した。多層ZnO/ITO積層構造もゾル-ゲル法で作製した。著者らの知見から,溶液系の方法はTCO薄膜を作製するための既存の超高真空法に代わるものとして有望であることを示唆した。Copyright 2014 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化物 ,  *透明導電膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  *薄膜 ,  基板 ,  石英ガラス ,  微細構造 ,  酸化インジウムスズ ,  *積層構造 ,  電気伝導率 ,  キャリア密度 ,  キャリア移動度 ,  透過率 ,  光透過 ,  表面粗さ ,  インジウム化合物 ,  硝酸塩 ,  塩化スズ ,  エーテル ,  脂肪族アルコール ,  脂肪族ケトン ,  ジケトン
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *ゾル-ゲル膜 ,  光透過率 ,  硝酸インジウム ,  *透明導電性酸化物

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： 2-メトキシエタノール ,  アセチルアセトン

タイトルに関連する用語 (3件)： ゾル-ゲル法 ,  透明導電性酸化物 ,  薄膜