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J-GLOBAL ID：201402284933482669   整理番号：14A0594140

次世代洗浄システムによるデバイス製造工程のパラダイムシフト

著者 (5件)： 仲野真一 (アクア化学) ,  山本健 (アクア化学) ,  長谷部伸治 (京大 大学院) ,  矢田詩歩 (奈良女大 大学院) ,  吉村倫一 (奈良女大 大学院)
資料名： コンバーテック  (Convertech)
巻： 42  号： 5  ページ： 71-73  発行年： 2014年05月15日 
JST資料番号： Y0873A  ISSN： 0911-2316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 様々な産業界において,生産現場での洗浄工程は必須である。近年,環境負荷低減や製造現場の安全性の観点から,汚れが油性加工油から水溶性加工油に変わりつつあり,汚れもウエット状態からドライ状態まで複雑に成ってきている。本稿では,特に中国・台湾・ASEAN地域で成長著しいグリーンデバイス向けの生産現場で採用されつつある,一液洗浄を主体とした革新的な次世代洗浄剤および洗浄システムについて述べた。1)はじめに,2)次世代マイクロエマルション洗浄剤(一液洗浄かつ蒸留再生可能な高機能マイクロエマルション型洗浄剤,スラリー洗浄用「D-200W」,ピッチ洗浄用「AQ♯200W」,ワックス洗浄「AQ♯300」),3)高効率洗浄システム(洗浄工程(減圧超音波洗浄,蒸気洗浄,真空乾燥,蒸留再生),単槽式小型洗浄機),4)グリーンデバイスへの洗浄適用例,5)おわりに。

シソーラス用語： グリーンケミストリー ,  *固体素子 ,  *生産工程 ,  技術革新 ,  *洗浄剤 ,  *工程 ,  変化 ,  *マイクロエマルション ,  スラリー ,  ピッチ【ビチューメン】 ,  ワックス ,  効率化 ,  減圧 ,  超音波洗浄 ,  真空乾燥 ,  蒸留 ,  再生
準シソーラス用語： パラダイムシフト ,  高効率化 ,  次世代 ,  蒸気清浄 ,  *洗浄工程 ,  *電子デバイス

分類 (4件)： 合成洗剤  (YG02030L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  応用物理化学的操作・装置  (XE03000E) ,  生産形態  (KB03020E)

引用文献 (1件)：

• 安井久一 : 産業洗浄, No.10, p.8 (2012.9)

タイトルに関連する用語 (4件)： 次世代 ,  洗浄システム ,  製造工程 ,  パラダイムシフト