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J-GLOBAL ID：201402293631390349   整理番号：14A0926360

高磁場下での銅電着におけるイオン空孔からのマイクロバブル生成

Microbubble Formation from Ionic Vacancies in Copper Electrodeposition under a High Magnetic Field

著者 (9件)： MIURA Makoto (Hokkaido Polytechnic Coll., Otaru, JPN) ,  AOGAKI Ryoichi (Polytechnic Univ., Tokyo, JPN) ,  AOGAKI Ryoichi (National Inst. of Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  OSHIKIRI Yoshinobu (Yamagata Coll. of Ind. Technol., Yamagata, JPN) ,  SUGIYAMA Atsushi (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  MORIMOTO Ryoichi (Saitama Prefectural Showa Water Filtration Plant, Saitama, JPN) ,  MIURA Miki (Yokohama Harbor Polytechnic Coll., Yokohama, JPN) ,  MOGI Iwao (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  YAMAUCHI Yusuke (National Inst. of Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
巻： 82  号： 8  ページ： 654-657  発行年： 2014年08月05日 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅電着で生成したイオン空孔はナノバブルからマイクロバブルへの転換によって初めて認められた。銅析出電位は水素発生電位よりずっと正なので,マイクロバブルは水素バブルではなくてイオン空孔に起因する。次いで,-300mVの過電圧でのマイクロバブルの発生時間を磁束密度を変えて調べた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 強磁場 ,  *磁場効果 ,  *銅 ,  *電着 ,  *空格子点 ,  *気泡 ,  過電圧 ,  磁束密度 ,  硫酸銅 ,  電磁流体流 ,  *マイクロバブル ,  ウルトラファインバブル
準シソーラス用語： 高磁場 ,  *空孔【点欠陥】 ,  ナノバブル

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

引用文献 (10件)：

• R. Aogaki, Y. Oshikiri, and M. Miura, Russ. J. Electrochem., 48, 636 (2012).
• Y. Oshikiri, M. Miura, and R. Aogaki, Russ. J. Electrochem., 48, 643 (2012).
• Y. Oshikiri, M. Miura, and R. Aogaki, Int. J. Electrochem., 2013, 610310 (2013).
• R. Aogaki, K. Motomura, A. Sugiyama, R. Morimoto, I. Mogi, M. Miura, M. Asanuma, and Y. Oshikiri, Magnetohydrodynamics, 48, 289 (2012) ISSN:0024-998X.
• R. Aogaki, K. Motomura, R. Morimoto, A. Sugiyama, I. Mogi, M. Asanuma, M. Miura, Y. Oshikiri, and Y. Yamauchi, ECS Trans., 45(12), 9 (2013).

タイトルに関連する用語 (6件)： 高磁場 ,  銅 ,  電着 ,  イオン ,  空孔 ,  マイクロバブル