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J-GLOBAL ID：201402296645815015   整理番号：14A0166522

マグネトロンスパッタ法による金属膜の膜厚分布(II)-ターゲットと基板間の距離およびエロージョン分布の効果-

Thickness Distribution of Metal Films by Magnetron Sputtering (II) -Effect of the Distance between the Target and Substrate and the Erosion Distribution-

著者 (5件)： 山崎登志成 (富山大学大学院理工学研究部) ,  木田隆之 (富山大学大学院理工学教育部) ,  吉澤寿夫 (富山大学大学院理工学研究部) ,  喜久田寿郎 (富山大学大学院理工学研究部) ,  山本鷹樹 (富山大学大学院理工学教育部)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 56  号： 9  ページ： 382-385 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタ法において,パラメータnまたはβを含む関数A(θ)=cos²θまたはA(θ)=cosθ(1+βcos²θ)で放出角度を表わし,それに基づいて計算した膜厚分布が,以前の研究で得た測定結果と一致するようにパラメータを決定し,その値を原子番号に対して整理した。この式により,ターゲット-基板距離やターゲットのエロージョン分布を変えたときの膜厚分布を予測した。C,Cu,及びPtに関する測定結果は,計算とほぼ一致した。放出角度分布は,放電電圧に依存した。n及びβの放電電圧依存性を調べた。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  金属薄膜 ,  *炭素 ,  *銅 ,  *白金 ,  *角度 ,  *パラメータ ,  *分布 ,  ターゲット ,  基板 ,  距離 ,  摩耗 ,  *膜厚分布 ,  エロージョン ,  機械的性質 ,  性質
準シソーラス用語： *放出角度

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (9件)：

• 1) A. Sakaya, T. Yamazaki, T. Kikuta, T. Yoshizawa, H. Hirate and T. Kida: J. Vac. Soc. Jpn., 54 (2011) 184.
• 2) T. Yamazaki and T. Yoshizawa: Shinku, 49 (2006) 547.
• 3) M. Stepanova and S.K. Dew: J. Vac. Sci. Technol. A, 19 (2001) 2805.
• 4) Y. Yamamura, T. Takiguchi and M. Ishida: Radiat. Eff. Defects Solids, 118 (1991) 237.
• 5) J. J. Hanak, H. W. Lehman and P. K. Wehner: J. Appl. Phys., 43 (1972) 1666.

タイトルに関連する用語 (6件)： マグネトロンスパッタ法 ,  金属膜 ,  膜厚分布 ,  ターゲット ,  エロージョン ,  分布