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J-GLOBAL ID：201402299112143693   整理番号：14A0194153

Si(111)表面上準安定吸着酸素分子の酸化膜被覆率依存

著者 (8件)： 西本究 (東北大 多元物質科研) ,  唐佳芸 (東北大 多元物質科研) ,  小川修一 (東北大 多元物質科研) ,  吉越章隆 (原子力機構) ,  石塚眞治 (長岡技科大) ,  渡辺大輝 (東北大 多元物質科研) ,  寺岡有殿 (原子力機構) ,  高桑雄二 (東北大 多元物質科研)
資料名： 日本表面科学会東北・北海道支部講演会講演予稿集  (日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集)
巻： 2012  ページ： 17  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： F1026A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  ファセット ,  *準安定状態 ,  酸素 ,  二原子分子 ,  *酸化膜 ,  *被覆率 ,  酸化 ,  吸着等温式 ,  仕事関数 ,  バンド構造 ,  化学結合 ,  光電子分光法 ,  光電子スペクトル ,  電気二重層 ,  時定数 ,  バンド曲がり ,  吸着分子 ,  酸素分子 ,  表面酸化 ,  *化成皮膜
準シソーラス用語： P型シリコン ,  吸着等温線 ,  酸化状態

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  吸着 ,  酸素分子 ,  酸化膜 ,  被覆率