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J-GLOBAL ID:201402299466496100   整理番号:14A0371550

集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置(2)

著者 (8件):
資料名:
巻: 61st  ページ: ROMBUNNO.19P-E14-16  発行年: 2014年03月03日 
JST資料番号: Y0054B  ISSN: 2436-7613  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  薄膜成長技術・装置 
タイトルに関連する用語 (3件):
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