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J-GLOBAL ID：201402299540046970   整理番号：14A0045526

パターンマッチング法を用いた二次電子像用のピクセル長キャリブレーション

Pixel length calibration using a pattern matching method for secondary-electron images

著者 (3件)： SUGAWARA Kentaro (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  MISUMI Ichiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  GONDA Satoshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8769  号： Pt.1  ページ： 876909.1-876909.6  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SEMによるピクセル長測定のキャリブレーション法を開発した。SEMはX-Yステージにレーザ干渉計を取り付けたものである。ステージ移動前後に撮った二画像を比較し,XとU方向への各移動ピクセル数を,パターンマッチング法を用いた画像処理法によって解析し,ステージ位置とピクセルデータからピクセル長をキャリブレーションする。開発したキャリブレーション法を粒子の呼び直径が100nmと300nmナノ粒子測定に適用した。解析ソフトウェアのプログラム化にはグラフィカル言語を用いた。SEMを用いて測定した粒径分布を示した。測定の不確かさを定量的に評価し,呼び直径100nmの粒子測定に対する不確かさバジェットを示した。

シソーラス用語： *粒度分析 ,  画像 ,  キャリブレーション ,  干渉計 ,  位置決め装置 ,  画像処理 ,  *パターンマッチング ,  計算機コード ,  指標 ,  走査電子顕微鏡 ,  ナノ粒子 ,  レーザ干渉計
準シソーラス用語： SEM画像 ,  X-Yステージ ,  解析ソフトウェア ,  不確かさバジェット ,  粒径測定

分類 (2件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  パターン認識  (JE07000S)

タイトルに関連する用語 (4件)： パターンマッチング ,  二次電子 ,  ピクセル ,  キャリブレーション