特許
J-GLOBAL ID：201403001272188035

真空処理装置、制振装置

発明者：
中尾 裕利

中尾 裕利 について

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坂内 雄也

坂内 雄也 について

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町家 賢二

町家 賢二 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-108688
公開番号（公開出願番号）：特開2014-229760
出願日： 2013年05月23日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
要約：
【課題】真空槽内に配置される制振対象物の振動を減衰させる。【解決手段】真空槽内の制振対象物上に制振装置5の固定部20が固定されており、制振装置5は、質量部21と、バネ部22と、ダンパ部23とで、制振対象物の振動を減衰させる。ダンパ部23には、粘弾性液は設けられておらず、コイル35と、コイル35内に配置された磁石36とは、一方が質量部21に固定され、他方が固定部20に固定されており、質量部21が振動したときに相対的に振動すると、振動に伴ってコイル35に誘導起電圧(V)が発生し、コイル35に流れた誘導電流が磁界を形成し、コイル35と磁石36との間に相対移動をさせない力が印加されるので、このダンパ部23の減衰係数(c)と、質量部21の質量(m)と、バネ部22のバネ定数(k)とで、質量部21の振動が減衰される。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
真空槽と、 前記真空槽内に配置され、マスクが配置されるマスク配置部と、 前記真空槽内に配置され、前記真空槽内に搬入された基板が配置されると前記基板が前記マスク配置部に配置された前記マスクと平行にされる基板配置部と、 前記マスク配置部と前記基板配置部との両方のうち、少なくとも片方を移動対象物として前記真空槽に対して移動させる移動装置と、 前記マスク配置部に配置された前記マスクと、前記基板配置部に配置された前記基板とを撮像し、撮像結果から、前記マスクと前記基板との間が、所定の位置関係になるように、前記移動装置によって前記移動対象物を前記真空槽内で移動させる制御装置と、 一台又は複数台の制振装置と、 を有する真空処理装置であって、 前記制振装置は、前記移動対象物に対して直接的に又は間接的に固定された固定部と、 前記固定部に対して、少なくとも一の可動方向に沿った移動が可能にされた所定の質量の質量部と、 一端が前記質量部に固定され、他端が前記固定部に固定され、前記質量部が前記可動方向に沿った移動をする際には、伸び又は縮むようにされた伸縮バネを有するバネ部と、 導線が巻き回されて構成されたコイルの中に磁石が配置され、前記コイルと前記磁石とが前記可動方向に沿った方向に相対移動可能にされたダンパ部と、を有し、 前記コイルと前記磁石とが相対移動して前記コイルに誘導起電圧が発生すると、前記コイルに前記誘導起電圧による誘導電流が流れるようにされた真空処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  F16F 15/02
FI (2件)：
H01L21/68 F ,  F16F15/02 C
Fターム (41件)：
3J048AA05 ,  3J048AC08 ,  3J048AD07 ,  3J048BC02 ,  3J048BE09 ,  3J048BF04 ,  3J048BF05 ,  3J048BF09 ,  3J048CB01 ,  3J048CB12 ,  3J048EA07 ,  5F131AA03 ,  5F131BA01 ,  5F131BA03 ,  5F131CA19 ,  5F131DA09 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DB13 ,  5F131DB15 ,  5F131DB51 ,  5F131DB62 ,  5F131DB72 ,  5F131DD43 ,  5F131DD57 ,  5F131DD76 ,  5F131FA26 ,  5F131HA28 ,  5F131JA12 ,  5F131JA16 ,  5F131JA33 ,  5F131JA34 ,  5F131KA14 ,  5F131KA35 ,  5F131KA44 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32 ,  5F131KB53 ,  5F131KB56 ,  5F131KB58
引用特許：
出願人引用 (2件)

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