特許
J-GLOBAL ID:201403001676064178
光干渉断層装置
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-003609
公開番号(公開出願番号):特開2014-134499
出願日: 2013年01月11日
公開日(公表日): 2014年07月24日
要約:
【課題】高速スキャンと大きいスキャン範囲とを両立することができ、光ビームを水平・垂直方向に高速スキャンし、2次元データ、さらには、3次元データの高速での収集を可能とする光干渉断層装置を提供する。【解決手段】低干渉光光源1と、前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタ3と、前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段8と、前記ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラー10と、前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段11と、前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置12とを備え、前記平面走査する手段は、電気光学結晶4を用いた光ビーム偏向手段を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被検体に低干渉光を照射して得られる反射光を用いて該被検体の光断層画像を生成する光干渉断層装置であって、
低干渉光を出力する光源と、
前記低干渉光を2つの方向に分割して参照光と測定光として出力するビームスプリッタと、
前記被検体に対して前記測定光を平面走査して照射し、該被検体から反射された反射光を再びビームスプリッタへ入力する平面走査手段と、
前記ビームスプリッタから出力された参照光を反射して再びビームスプリッタへ入力する参照光ミラーと、
前記参照光と前記反射光とが前記ビームスプリッタで結合した光を検出する光検出手段と、
前記光検出手段で検出された光の干渉を解析して前記被検体の光断層画像を生成する信号処理装置とを備え、
前記平面走査する手段は、電気光学結晶を用いた光ビーム偏向手段を有することを特徴とする光干渉断層装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N21/17 630
, G01B11/00 G
Fターム (49件):
2F065AA04
, 2F065AA06
, 2F065AA20
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065DD06
, 2F065FF52
, 2F065GG00
, 2F065HH03
, 2F065HH04
, 2F065HH09
, 2F065JJ03
, 2F065JJ18
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL10
, 2F065LL12
, 2F065LL13
, 2F065LL33
, 2F065LL35
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL53
, 2F065LL62
, 2F065MM16
, 2F065MM26
, 2F065MM28
, 2F065PP22
, 2F065QQ16
, 2F065QQ24
, 2F065UU06
, 2G059AA05
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059GG02
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ15
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
引用特許:
審査官引用 (5件)
-
光断層画像取得装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-334096
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
光偏向器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-010962
出願人:日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
-
歯科用光コヒーレンストモグラフィー装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-168685
出願人:株式会社松風, 国立大学法人筑波大学
-
分光器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-179850
出願人:日本電信電話株式会社
-
光干渉断層装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-228783
出願人:株式会社東芝, 東芝メディカルシステムズ株式会社
全件表示
前のページに戻る