特許
J-GLOBAL ID：201403003247777002
収差計測方法、露光装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-101672
公開番号（公開出願番号）：特開2012-151508
特許番号：特許第5518124号
出願日： 2012年04月26日
公開日（公表日）： 2012年08月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 投影光学系の球面収差量及びコマ収差量を計測する計測方法であって、
第1計測条件を用いて物体面側マークを照明して前記物体面側マークの像を前記投影光学系を用いて像面側マーク上に投影し、前記投影光学系の光軸方向の複数の位置で前記像面側マークを透過した光を検出することにより前記投影光学系の光軸方向の第1フォーカス位置を計測し、前記投影光学系の光軸に対して垂直な面内において前記像面側マークの位置を変えて前記面内の複数の位置で前記像面側マークを透過した光を検出することにより前記面内における前記物体面側マークの像の第1位置を計測する第1計測工程と、
第2計測条件を用いて物体面側マークを照明して前記物体面側マークの像を前記投影光学系を用いて前記像面側マーク上に投影し、前記光軸方向の複数の位置で前記像面側マークを透過した光を検出することにより前記投影光学系の光軸方向の第2フォーカス位置を計測し、前記光軸に対して垂直な面内であって前記光軸の方向にデフォーカスしたデフォーカス面内において前記像面側マークの位置を変えて前記デフォーカス面内の複数の位置で前記像面側マークを透過した光を検出することにより前記デフォーカス面内における前記物体面側マークの像の第2位置を計測する第2計測工程と、
前記第1フォーカス位置と前記第2フォーカス位置との差分から前記球面収差量を求める工程と、
前記第1位置と前記第2位置との差分から前記コマ収差量を求める工程とを有し、
前記第1計測条件と前記第2計測条件とでは、前記物体面側マークを照明する照明条件が互いに異なる、又は、前記物体面側マークのピッチが互いに異なることを特徴とする計測方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G01M 11/02 ( 200 6.01)
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 521
, G01M 11/02 B
