特許
J-GLOBAL ID：200903070689618077
計測方法、結像特性調整方法、露光方法及び露光装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-058118
公開番号（公開出願番号）：特開2003-218024
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の結像特性変化を補正するために用いられる結像特性調整情報を短時間で取得する。【解決手段】 レチクルR上の計測マークPMyを照明光ILにより照明して計測マークの空間像を投影光学系PLを介して像面上に形成し、前記空間像に対してスリット29を走査し、該走査中にスリットを介した照明光を光電検出し、その検出結果として空間像に対応する光強度信号を得る、空間像計測を投影光学系PLの複数の状態について、繰り返し行う。そして、得られた投影光学系の状態毎の空間像の光強度信号に基づいて、投影光学系の状態の変化量と特定の結像特性の変化量との関係(結像特性補正情報)を算出する。従って、結像特性調整情報を、露光、現像、レジスト像の計測等の工程を経ることなく、短時間で取得できる。
請求項（抜粋）：
投影光学系の結像特性変化を補正するために用いられる結像特性調整情報を計測する計測方法であって、第1面上に配置された少なくとも1つの計測マークを照明光により照明して前記計測マークの空間像を前記投影光学系を介して第2面上に形成し、前記空間像に対して所定の計測用パターンを走査し、該走査中に前記計測用パターンを介した前記照明光を光電検出し、その検出結果として前記空間像に対応する光強度信号を得る空間像計測を、前記投影光学系の複数の状態について、繰り返し行う空間像計測工程と;前記空間像計測工程での計測結果に基づいて、前記投影光学系の状態の変化量と前記状態の変化に応じた特定の結像特性の変化量との関係を算出する算出工程と;を含む計測方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01M 11/02
, G03F 7/20 521
G01M 11/02 B
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
2G086HH01
, 2G086HH02
, 2G086HH06
, 2G086HH07
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB25
, 5F046DA12
, 5F046DB05
