特許
J-GLOBAL ID:201403003511850341

気相成長装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-139360
公開番号(公開出願番号):特開2014-003251
出願日: 2012年06月21日
公開日(公表日): 2014年01月09日
要約:
【課題】 リング状のベアリングボール保持具により保持された複数のベアリングボールを介して、基台に対し回転自在に保持される回転部材が備えられた基板回転機構を有する気相成長装置において、反応性ガスが存在し高温(例えば1000°C以上)の環境となる気相成長中においても、ベアリングボールの脱落を抑制できる気相成長装置を提供する。【解決手段】 前述のような気相成長装置において、リング状のベアリングボール保持具の内周側にベアリングボールを収納する複数の凹部を備えた構成とする。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
リング状のベアリングボール保持具により保持された複数のベアリングボールを介して、基台に対し回転自在に保持される回転部材が備えられた基板回転機構を有する気相成長装置であって、前記リング状のベアリングボール保持具が、内周側にベアリングボールを収納する複数の凹部を備えてなることを特徴とする気相成長装置。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/44
FI (2件):
H01L21/205 ,  C23C16/44 G
Fターム (25件):
4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030BA08 ,  4K030BA38 ,  4K030BB02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA12 ,  4K030FA10 ,  4K030GA06 ,  4K030KA46 ,  4K030LA14 ,  5F045AA04 ,  5F045AB14 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045AD14 ,  5F045AF09 ,  5F045BB03 ,  5F045DA53 ,  5F045DP15 ,  5F045DP27 ,  5F045EB15 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 半導体製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-026774   出願人:日立電線株式会社
  • 気相成長装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-269966   出願人:日立電線株式会社

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