特許
J-GLOBAL ID：201403003599645700
蒸着マスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
笹島 富二雄
, 小川 護晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-284936
公開番号（公開出願番号）：特開2014-125671
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
要約：
【課題】開口パターンの形状及び位置精度を向上する。【解決手段】基板に蒸着される薄膜パターンに対応して該薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターン6を形成した樹脂製のフィルム2と、前記開口パターン6を内包する大きさの貫通孔4を形成した薄板状の磁性金属部材1とを密接させた構造の蒸着マスクであって、前記貫通孔4を内包する蒸着有効領域外の前記磁性金属部材1の部分にダミー貫通孔5を設け、該ダミー貫通孔5内の前記フィルム2に、前記フィルム2と前記磁性金属部材1との間の熱膨張の差により発生する前記開口パターン6及び前記貫通孔4の変形を制御するためのダミー開口パターン7を設けた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に蒸着される薄膜パターンに対応して該薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを形成した樹脂製のフィルムと、前記開口パターンを内包する大きさの貫通孔を形成した薄板状の磁性金属部材とを密接させた構造の蒸着マスクであって、
前記貫通孔を内包する蒸着有効領域外の前記磁性金属部材の部分にダミー貫通孔を設け、該ダミー貫通孔内の前記フィルムに、前記フィルムと前記磁性金属部材との間の熱膨張の差により発生する前記開口パターン及び前記貫通孔の変形を制御するためのダミー開口パターンを設けたことを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件)：
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC35
, 3K107CC45
, 3K107GG28
, 3K107GG33
, 4K029HA02
, 4K029HA03
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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