特許
J-GLOBAL ID:201403004183477901
液浸上層膜形成用組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
天野 一規
, 池田 義典
, 小川 博生
, 石田 耕治
, 各務 幸樹
, 根木 義明
, 新庄 孝
, 川端 和也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-218885
公開番号(公開出願番号):特開2014-071389
出願日: 2012年09月28日
公開日(公表日): 2014年04月21日
要約:
【課題】高い撥水性を示しつつ剥がれ耐性にも優れる液浸上層膜形成用組成物を提供する。【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位を有する重合体(a)を含む重合体成分、及び[B]溶媒を含有する液浸上層膜形成用組成物。(下記式(1)中、R1は、カルボキシ基又は下記式(2)で表される基である。R2は、炭素数1〜20の(n+1)価の炭化水素基、炭素数1〜20の(n+1)価のフッ素化炭化水素基、又はこれらの基の炭素-炭素間に-CO-、-COO-、-O-、-NR’-、-CS-、-S-、-SO-及び-SO2-からなる群より選択される少なくとも1種を含む基である。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体(a)を含む重合体成分、及び
[B]溶媒
を含有する液浸上層膜形成用組成物。
IPC (4件):
G03F 7/11
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 20/26
FI (5件):
G03F7/11 501
, G03F7/11 502
, G03F7/004 501
, H01L21/30 575
, C08F20/26
Fターム (57件):
2H125AF17P
, 2H125AF21P
, 2H125AF36P
, 2H125AF70P
, 2H125AH19
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ66X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM10N
, 2H125AM22N
, 2H125AM27N
, 2H125AM29N
, 2H125AM38N
, 2H125AM57N
, 2H125AM91N
, 2H125AM92N
, 2H125AM94N
, 2H125AM99N
, 2H125AN11N
, 2H125AN31N
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN54P
, 2H125BA01N
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125DA03
, 2H125FA03
, 4J100AJ02P
, 4J100AL03P
, 4J100AL08Q
, 4J100AM21Q
, 4J100AP01Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA12Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA16Q
, 4J100BA56Q
, 4J100BA59Q
, 4J100BB18P
, 4J100BB18Q
, 4J100BC04Q
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
, 5F146JA22
引用特許:
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