特許
J-GLOBAL ID:201403007317552068

光電子素子、および層をドーピングするためのドーピング材料としての銅錯体の使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  久野 琢也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-503046
公開番号(公開出願番号):特表2014-513419
出願日: 2012年03月01日
公開日(公表日): 2014年05月29日
要約:
種々の実施例において、湿式化学法によるホール注入層(508); および、前記湿式化学法によるホール注入層(508)に隣接する、ドーピング材料でドープされた追加的な層(510)を有する光電子素子(500、600、700)であって、前記ドーピング材料が銅錯体を有し、前記銅錯体は、式I:(I)[式中、E1およびE2は、それぞれ互いに独立して、以下の元素の1つである: 酸素、硫黄またはセレン、且つ、Rは、水素、または、置換もしくは非置換の、分枝鎖、直鎖もしくは環式の炭化水素の群から選択される]による化学構造を有する少なくとも1つの配位子を有する、前記光学素子が提供される。
請求項(抜粋):
・ 湿式化学法によるホール注入層(508)、および ・ 前記湿式化学法によるホール注入層(508)に隣接する、ドーピング材料でドープされた追加的な層(510) を有する光電子素子(500、600、700)であって、前記ドーピング材料が銅錯体を有し、前記銅錯体は、式I:
IPC (2件):
H01L 51/50 ,  H05B 33/12
FI (3件):
H05B33/22 D ,  H05B33/12 C ,  H05B33/14 A
Fターム (10件):
3K107AA01 ,  3K107CC04 ,  3K107CC21 ,  3K107CC45 ,  3K107DD52 ,  3K107DD72 ,  3K107DD73 ,  3K107DD78 ,  3K107DD80 ,  3K107GG06
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る