プラズマ維持のための光ポンピング

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-518888
公開番号（公開出願番号）：特表2014-526119
出願日： 2012年06月25日
公開日（公表日）： 2014年10月02日
要約：

プラズマを維持する方法は、所定容積のガスを提供することと、第1の選択された波長の照射を生成することと、第1の選択された波長の照射を所定容積のガス中に集束させることにより、ガスの第1の領域内に第1のプラズマ種を形成し、ガスの少なくとも第2の領域内に少なくとも第2のプラズマ種を形成することとを含む。第1の領域は、第1の平均温度および第1のサイズを有し、少なくとも第2の領域は、少なくとも第2の平均温度および少なくとも第2のサイズを有し、照射の第1の選択された波長を第1のプラズマ種の吸収線へ同調させることにより、第1の選択された波長の照射は、少なくとも第2のプラズマ種によって実質的に透過され、第1の選択された波長の照射は、第1のプラズマ種によって実質的に吸収され、吸収線は、第1のプラズマ種のイオン吸収遷移または圧力励起中性遷移の少なくとも1つに関連する。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

プラズマを維持する方法であって、所定容積のガスを提供することと、第1の選択された波長の照射を生成することと、前記第1の選択された波長の前記照射を前記所定容積のガス中に集束させることにより、前記ガスの第1の領域内に第1のプラズマ種を形成し、前記ガスの少なくとも第2の領域内に少なくとも第2のプラズマ種を形成することとを含み、前記第1の領域は、第1の平均温度および第1のサイズを有し、前記少なくとも第2の領域は、少なくとも第2の平均温度および少なくとも第2のサイズを有し、前記第1の選択された波長の前記照射は、前記少なくとも第2のプラズマ種によって実質的に透過され、前記第1の選択された波長の前記照射は、前記照射の前記第1の選択された波長を前記第1のプラズマ種の吸収線へ同調させることにより、前記第1のプラズマ種によって実質的に吸収され、前記吸収線は、前記第1のプラズマ種のイオン吸収遷移または圧力励起中性遷移の少なくとも1つに関連する、方法。

IPC (1件)：

H05H 1/24

FI (1件)：

H05H1/24

引用特許：

審査官引用 (5件)

特許第7705331号
特開昭61-193358
レーザー駆動光源
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-013956 出願人：ウシオ電機株式会社

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