レーザ射出装置及びレーザ射出装置の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：亀谷美明 , 金本哲男 , 萩原康司 , 松本一騎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-285027
公開番号（公開出願番号）：特開2014-127651
出願日： 2012年12月27日
公開日（公表日）： 2014年07月07日
要約：

【課題】より安定的な出力を得ることを可能とする。【解決手段】所定の波長の光を射出する半導体レーザと、前記半導体レーザの後段に設けられ、前記半導体レーザからの射出光を反射することにより前記半導体レーザとの間で共振構造を構成するとともに、前記射出光の一部が出力光として外部に取り出されるグレーティングと、前記半導体レーザの光射出面と前記グレーティングの反射面とが共焦点となるように、前記半導体レーザと前記グレーティングとの間に少なくとも1つ設けられるシリンドリカルレンズと、を備えるレーザ射出装置を提供する。【選択図】図3B

請求項（抜粋）：

所定の波長の光を射出する半導体レーザと、前記半導体レーザの後段に設けられ、前記半導体レーザからの射出光を反射することにより前記半導体レーザとの間で共振構造を構成するとともに、前記射出光の一部が出力光として外部に取り出されるグレーティングと、前記半導体レーザの光射出面と前記グレーティングの反射面とが共焦点となるように、前記半導体レーザと前記グレーティングとの間に少なくとも1つ設けられるシリンドリカルレンズと、を備えるレーザ射出装置。

IPC (1件)：

H01S 5/14

FI (1件)：

H01S5/14

Fターム (6件)：

5F173AB34 , 5F173AL04 , 5F173AR06 , 5F173AR13 , 5F173MF39 , 5F173SA09

引用特許：

審査官引用 (8件)

レーザ光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-246711 出願人：シャープ株式会社
光学式変位検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-310553 出願人：株式会社リコー
外部共振器型の波長可変光源
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-186400 出願人：横河電機株式会社

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