特許

J-GLOBAL ID：201403020255174254

導電性パターンおよびその製造方法

発明者： ジ-ヨン・ファン ,  イン-ソク・ファン ,  ドン-ウク・イ ,  ミン-チュン・パク ,  スン-ホン・イ ,  サン-キ・チュン ,  ヨン-クー・ソン ,  ボム-モ・クー
出願人/特許権者： エルジー・ケム・リミテッド
代理人 (2件)： 実広 信哉 ,  渡部 崇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-262254
公開番号（公開出願番号）：特開2014-060454
出願日： 2013年12月19日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：

【課題】導電性パターンおよびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、a)基板上に導電性膜を形成するステップ;b)前記導電性膜上にエッチングレジストパターンを形成するステップ;およびc)前記エッチングレジストパターンを利用して前記導電性膜をオーバーエッチング(over-etching)することによって、前記エッチングレジストパターンの幅より小さい線幅を有する導電性パターンを形成するステップを含む導電性パターンの製造方法、およびこれによって製造された導電性パターンを提供する。本発明によれば、超微細線幅を有する導電性パターンを効率的で且つ経済的に提供することができる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

線幅が0.1から10マイクロメートルであり、厚さが300nm以下である、導電性パターン。

IPC (1件)：

H05K 3/06

FI (1件)：

H05K3/06 D

Fターム (20件)：

5E339BC01 ,  5E339BD03 ,  5E339BD06 ,  5E339BD07 ,  5E339BD08 ,  5E339BE12 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE11 ,  5E339CE12 ,  5E339CE15 ,  5E339CE18 ,  5E339CE19 ,  5E339CE20 ,  5E339CF15 ,  5E339DD02 ,  5E339DD04 ,  5E339FF02 ,  5E339FF10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-430085   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 有機エレクトロルミネッセンス素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-191026   出願人：住友化学株式会社
• エッチング液、及びこれを用いる薄膜パターンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-250102   出願人：株式会社東芝
• 多層薄膜パターン及び表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-136972   出願人：三菱電機株式会社