特許
J-GLOBAL ID：200903095024402297

透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜

発明者：
佐々木 博友

佐々木 博友 について

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西桜 量

西桜 量 について

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守本 潔

守本 潔 について

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高田 俊二

高田 俊二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-430085
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221564
出願日： 2003年12月25日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】 高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド材料を細線のパターンに形成可能であり、かつ安価に大量生産できる透光性電磁波シールド膜の製造方法及びその製造方法により得られたモアレの問題のない透光性電磁波シールド膜の提供。【解決手段】 支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成した後、さらに前記金属銀部を物理現像及び/又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び/又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成することを特徴とする、導電性金属部及び光透過性部を有する透光性電磁波シールド膜の製造方法。
IPC (1件)：
H05K9/00
FI (1件)：
H05K9/00 V
Fターム (4件)：
5E321AA04 ,  5E321BB23 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (4件)
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