特許
J-GLOBAL ID：201403029143126637
磁気研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
岡島 明子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156642
公開番号（公開出願番号）：特開2014-018875
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】凹面を有する被研磨物であっても、被研磨物の表面に沿って研磨工具を移動(主に平面から凹面方向への上下移動)することなく、凹面を含めた表面全体を均一に鏡面研磨できる磁気研磨方法を提供する。【解決手段】磁性粒子、非磁性砥粒および磁性流体を含む研磨加工液と、磁性材料で製作された研磨工具3と、軸方向に貫通孔を備えたコイル2と、を有しており、研磨工具3がコイル2の貫通孔に挿通している研磨装置1を用いた、凹面を有する被研磨物Wの磁気研磨方法であって、コイル2にパルス電圧を印加した状態で研磨工具3を回転しながら、研磨工具3と被研磨物Wとの間隔を1.0mm〜1.5mmに保持して凹面を鏡面研磨する磁気研磨方法とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
磁性粒子、非磁性砥粒および磁性流体を含む研磨加工液と、磁性材料で製作された研磨工具と、軸方向に貫通孔を備えたコイルと、を有しており、前記研磨工具が前記コイルの貫通孔に挿通されている研磨装置を用いた、凹面を有する被研磨物の磁気研磨方法であって、前記コイルにパルス電圧を印加させた状態で前記研磨工具を回転させながら、前記研磨工具と前記被研磨物との間隔を1.0mm〜1.5mmに保持させて前記被研磨物の凹面を鏡面研磨することを特徴とする磁気研磨方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
3C058AA07
, 3C058CB01
, 3C058DA11
