特許
J-GLOBAL ID：200903080228617325

磁気援用微細研磨装置及び磁気援用微細研磨方法

発明者：
吉原 佐知雄

吉原 佐知雄 について


出願人/特許権者：
国立大学法人宇都宮大学

国立大学法人宇都宮大学 について


代理人 (1件)： 吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-337065
公開番号（公開出願番号）：特開2007-136637
出願日： 2005年11月22日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】被研磨特性の異なる領域が混在する被研磨面であっても、研磨の偏りを極力なくすことができ、被研磨面の微細研磨を可能とする磁気援用微細研磨装置及び磁気援用微細研磨方法を提供する。【解決手段】研磨対象物1を保持する保持部材12と、保持部材12に保持された研磨対象物1の被研磨面2に対向し、且つ被研磨面2との間に所定の間隙Sを設けて配置された第1の磁石14と、保持部材12と第1の磁石14とを、被研磨面2にほぼ平行な仮想平面内で相対的に回転及び/又は水平振動させる第1の駆動手段と、被研磨面2と第1の磁石14との間隙Sに、磁性砥粒、磁性粒子を含有する研磨砥粒、及び磁性砥粒若しくは前記研磨砥粒を含有する研磨スラリーから選ばれる研磨材を供給する研磨材供給手段とを少なくとも備える磁気援用微細研磨装置10により、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
研磨対象物を保持する保持部材と、 前記保持部材に保持された研磨対象物の被研磨面に対向し、且つ該被研磨面との間に所定の間隙を設けて配置された第1の磁石と、 前記保持部材と前記第1の磁石とを、前記被研磨面にほぼ平行な仮想平面内で相対的に回転及び/又は水平振動させる第1の駆動手段と、 前記被研磨面と前記第1の磁石との間隙に、磁性砥粒、磁性粒子を含有する研磨砥粒、及び磁性砥粒若しくは前記研磨砥粒を含有する研磨スラリーから選ばれる研磨材を供給する研磨材供給手段と、を少なくとも備えることを特徴とする磁気援用微細研磨装置。
IPC (4件)：
B24B 37/00 ,  B24B 31/112 ,  B24B 1/04 ,  H01L 21/304
FI (7件)：
B24B37/00 D ,  B24B31/112 ,  B24B37/00 E ,  B24B1/04 D ,  H01L21/304 621B ,  H01L21/304 621A ,  H01L21/304 622B
Fターム (13件)：
3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AA11 ,  3C049AA16 ,  3C049CA01 ,  3C049CB01 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA11 ,  3C058AA16 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058DA10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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