特許
J-GLOBAL ID：201403035824984631

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

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落合 光良

落合 光良 について

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平岡 崇志

平岡 崇志 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-217567
公開番号（公開出願番号）：特開2014-112209
出願日： 2013年10月18日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
要約：
【課題】優れた形状で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を有し、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、酸不安定基を有する樹脂、並びに、式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR3は、水素原子又はメチル基;R2は脂環式炭化水素基;L1は2価の飽和炭化水素基又は単結合;R4はフッ素原子を有する飽和炭化水素基;Q1及びQ2は、互いフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L2は2価の飽和炭化水素基;環Wは、脂環式炭化水素環;Rf1及びRf2は、互いにフッ素原子又はフッ化アルキル基;nは1〜10の整数;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位及び式(a4)で表される構造単位を有し、かつ、酸不安定基を有さない樹脂、 酸不安定基を有する樹脂、並びに、 式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  C08F 220/10 ,  C08F 220/22 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  C08F220/10 ,  C08F220/22 ,  H01L21/30 502R
Fターム (54件)：
2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB12Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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