特許
J-GLOBAL ID：201103092645550337

パターン形成方法、パターン、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜

発明者：
岩戸 薫

岩戸 薫 について

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樽谷 晋司

樽谷 晋司 について

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榎本 雄一郎

榎本 雄一郎 について

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上村 聡

上村 聡 について

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加藤 啓太

加藤 啓太 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-005341
公開番号（公開出願番号）：特開2011-145424
出願日： 2010年01月13日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：
【課題】感度及び解像力が高く、線幅バラツキ(LWR)が小さく、露光ラチチュード(EL)及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。【解決手段】(ア)(A)2個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤、及び(D)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(ア)(A)2個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤、及び(D)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、 を含むパターン形成方法。
IPC (7件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/039
FI (8件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/32 ,  G03F7/32 501 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/26 ,  G03F7/039 601
Fターム (91件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096GA03 ,  2H096GA18 ,  2H125AE03P ,  2H125AE04P ,  2H125AE05P ,  2H125AE06P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ16X ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ74X ,  2H125AJ88Y ,  2H125AJ97Y ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AL22 ,  2H125AL23 ,  2H125AM10P ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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