特許
J-GLOBAL ID：201403040778724844
超純水の製造方法及び超純水製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-258695
公開番号（公開出願番号）：特開2014-104413
出願日： 2012年11月27日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
要約：
【課題】超純水製造装置の陰イオン交換樹脂として、低溶出性でサイクル強度が高く、体積当たりのイオン交換容量も大きく、また有機物の吸着能力も高く、長期間使用することができる陰イオン交換樹脂を用いて、高純度の超純水を長期に亘り安定かつ効率的に製造する。【解決手段】超純水製造装置の陰イオン交換樹脂として、ゲル型樹脂であり、かつ、特定の方法で測定されるポリスチレンスルホン酸吸着量が0.25mmol/L-樹脂以上、平均粒径が300μm以上である強塩基性陰イオン交換樹脂を用いる。この強塩基性陰イオン交換樹脂は、好ましくは、特定の方法で測定されるBET比表面積が1m2/g未満で、特定の方法で測定される吸光度が0.10以上0.44以下である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
陰イオン交換樹脂を備えた超純水製造装置を用いて超純水を製造する方法において、該陰イオン交換樹脂がゲル型であり、以下の方法で測定されるポリスチレンスルホン酸吸着量が0.25mmoL/L-樹脂以上であって、かつ平均粒径が300μm以上である強塩基性陰イオン交換樹脂を用いることを特徴とする超純水の製造方法。
<ポリスチレンスルホン酸吸着量の測定方法>
東ソー有機化学(株)製ポリスチレンスルホン酸ナトリウム「ポリナスPS-1」を強酸性陽イオン交換樹脂に通液してH形とした後、H濃度として0.01mmoL/Lに濃度調整したポリスチレンスルホン酸水溶液を調製する。
水酸化ナトリウム水溶液で処理してOH形に調整した強塩基性陰イオン交換樹脂をカラムに充填して水洗した後、濃度調整したポリスチレンスルホン酸水溶液を通液し、50%破過相当時のポリスチレンスルホン酸吸着量を求め、当該強塩基性陰イオン交換樹脂のポリスチレンスルホン酸の吸着量とする。
IPC (4件)：
C02F 1/42
, B01J 47/06
, B01J 41/14
, C08J 5/22
C02F1/42 B
, B01J47/06
, C02F1/42 A
, B01J41/14 B
, C08J5/22 104
, C08J5/22
4D025AA04
, 4D025AB34
, 4D025BA08
, 4D025BA14
, 4D025BB02
, 4D025BB03
, 4D025BB04
, 4F071AA22C
, 4F071AA78C
, 4F071FA11
, 4F071FB02
, 4F071FB04
, 4F071FB05
, 4F071FC01
, 4F071FC12
, 4F071FD05
