特許
J-GLOBAL ID：201403040804564443

露光装置、露光方法、デバイス製造方法

発明者：
柴崎 祐一

柴崎 祐一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (5件)： 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  加藤 真司 ,  鈴木 守 ,  大谷 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-266038
公開番号（公開出願番号）：特開2014-078748
出願日： 2013年12月24日
公開日（公表日）： 2014年05月01日
要約：
【課題】メンテナンス作業を容易に実行可能であり、基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。【解決手段】基板ホルダPHは、基材PHBと、基材PHBに形成され且つ基板Pを吸着保持する第1保持部PH1と、基材PHBに形成され且つ第1保持部PH1に吸着保持された基板Pの近傍にプレート部材Tを吸着保持する第2保持部PH2とを備えている。基板ホルダPHを備える露光装置は、プレートの交換が容易であり、メンテナンスが容易である。それゆえ、液浸露光に好適である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、 前記基板を保持する基板保持部を有し、前記投影光学系に対して移動可能なステージを備え、 前記ステージは、前記基板保持部に保持された前記基板と前記基板保持部より外側に設けられたステージ上面との間のギャップに浸入した前記液体を回収する回収部を含み、 前記回収部は、多孔体またはメッシュ部材と、前記ギャップに浸入し前記多孔体またはメッシュ部材を介した前記液体を回収するための流路と、を含む露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 503C ,  G03F7/20 521
Fターム (4件)：
5F146BA11 ,  5F146CB31 ,  5F146CC08 ,  5F146DA34
引用特許：
審査官引用 (3件)

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