特許

J-GLOBAL ID：201403041851873272

プラズマ処理装置

発明者： 桑原 有生 ,  新藤 信明 ,  早川 幸絵 ,  加藤 隆彦 ,  前田 昇
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-235884
公開番号（公開出願番号）：特開2014-086632
出願日： 2012年10月25日
公開日（公表日）： 2014年05月12日
要約：

【課題】主ガスと調整ガスとの分子量比に応じた濃度のバラツキを抑制する。【解決手段】処理容器に設けられ、内部に複数のガス供給ゾーンを有し、各ガス供給ゾーンから主ガスを含む処理ガスを該処理容器内にそれぞれ導入する上部電極40と、複数に分岐し、処理ガスを所定の流量比に分けて複数のガス供給ゾーンに供給するための分岐配管60と、分岐配管の分岐後の複数の分岐部の少なくともいずれかに接続され、処理ガスに調整ガスを添加するための付加配管130と、分岐配管の分岐後の複数の分岐部と複数のガス供給ゾーンとを連結する複数のガス配管53,54とを有し、複数のガス配管のうち、少なくとも付加配管が接続された分岐配管の分岐部に連結するガス配管のガス経路には、主ガスと調整ガスとの分子量比に応じた濃度のバラツキを抑制するための屈曲部が形成されているプラズマ処理装置1が提供される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

処理容器内に供給されるガスを高周波電力によりプラズマ化し、被処理体にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、 前記処理容器に設けられ、内部に複数のガス供給ゾーンを有し、各ガス供給ゾーンから主ガスを含む処理ガスを該処理容器内にそれぞれ導入する上部電極と、 複数に分岐し、前記処理ガスを所定の流量比に分けて前記複数のガス供給ゾーンに供給するための分岐配管と、 前記分岐配管の分岐後の複数の分岐部の少なくともいずれかに接続され、前記処理ガスに調整ガスを添加するための付加配管と、 前記分岐配管の分岐後の複数の分岐部と前記複数のガス供給ゾーンとを連結する複数のガス配管とを有し、 前記複数のガス配管のうち、少なくとも前記付加配管が接続された分岐配管の分岐部に連結するガス配管のガス経路には、前記主ガスと前記調整ガスとの分子量比に応じた濃度のバラツキを抑制するための屈曲部が形成されているプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101G ,  H05H1/46 M

Fターム (9件)：

5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004CA06 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-084207   出願人：株式会社日立国際電気
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-010576   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• 半導体製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-084207   出願人：株式会社日立国際電気
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-010576   出願人：東京エレクトロン株式会社