特許
J-GLOBAL ID：201403046774950570
グラビアシリンダー及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石原 進介
, 石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-288580
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130267
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：
【課題】高アスペクト比のグラビアセルを備えたグラビアシリンダー及びその製造方法を提供する。【解決手段】版母材上にDLC層を形成し、前記DLC層上に、エッチング可能な材料でDLC被覆層を形成し、前記DLC被覆層上にフォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成した後、前記フォトレジスト層を露光・現像せしめてレジストパターン層を形成し、前記DLC被覆層をエッチングせしめてDLC被覆パターン層を形成し、前記レジストパターン層を剥離し、前記DLC層をドライエッチングせしめて前記DLC層にグラビアセルを形成し、前記DLC被覆層を剥離してなるようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
版母材上にDLC層を形成し、前記DLC層上に、エッチング可能な材料でDLC被覆層を形成し、前記DLC被覆層上にフォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成した後、前記フォトレジスト層を露光・現像せしめてレジストパターン層を形成し、前記DLC被覆層をエッチングせしめてDLC被覆パターン層を形成し、前記レジストパターン層を剥離し、前記DLC層をドライエッチングせしめて前記DLC層にグラビアセルを形成し、前記DLC被覆層を剥離してなることを特徴とするグラビアシリンダー。
IPC (4件)：
G03F 7/00
, B41N 1/12
, B41N 1/20
, B41N 1/22
G03F7/00 505
, B41N1/12
, B41N1/20
, B41N1/22
2H096AA15
, 2H114AA02
, 2H114AA09
, 2H114AA23
, 2H114DA03
, 2H114DA04
, 2H196AA15
