大面積X線源を使用した汚染除去・滅菌システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 小林良博 , 蛯谷厚志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-198336
公開番号（公開出願番号）：特開2013-034870
特許番号：特許第5571751号
出願日： 2012年09月10日
公開日（公表日）： 2013年02月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減するために該ターゲット物質に照射を施す方法であって、該方法が: ゲートフィールドエミッター電子源と前記ゲートフィールドエミッター電子源を間に配置して対向する電子ターゲットを具備するX線放射源を用意し、ここで、前記X線放射源は、幅及び高さの次元を有する少なくとも1つのフラットパネルX線放射源であり、前記電子源は前記対向する電子ターゲットに電子を放射して、一方、前記X線放射源は前記電子ターゲットからのX線放射を一つの方向に放射して前記フラットパネルX線源の幅及び高さの次元と整列し、そして該次元と実質的に同じであるか又は該次元よりも小さい幅及び高さの次元を有するターゲット・ゾーンを形成し; 前記X線放射源は、前記対向する電子ターゲットの一方に電子を放射し、前記一つの方向のX線を照射して前記ターゲットゾーンを形成する反射モード及び前記対向する電子ターゲットの他方に電子を放射し、前記一つの方向のX線を照射して前記ターゲットゾーンを形成する透過モードで作動し; 前記X線放射のターゲット・ゾーン内に前記ターゲット物質を配置し; 前記ターゲット物質に、X線放射源からの放射線を照射することにより前記ターゲット物質中の汚染物質の存在の生物学的作用を低減する、方法。

IPC (5件)：

A61L 2/08 ( 200 6.01) , A23L 1/015 ( 200 6.01) , A23L 1/025 ( 200 6.01) , A23L 3/26 ( 200 6.01) , H05G 1/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

A61L 2/08 , A23L 1/015 , A23L 1/025 , A23L 3/26 , H05G 1/00 D

引用特許：

出願人引用 (4件)

X線照射装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-574689 出願人：アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド
製品用X線ターゲット
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-542181 出願人：ステリスインコーポレイテッド
X線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-088943 出願人：株式会社東芝

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