特許
J-GLOBAL ID：201403050342256620

基板冷却装置及びマスクブランクの製造方法

発明者：
本間 裕介

本間 裕介 について

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近藤 満

近藤 満 について

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三井 三夫

三井 三夫 について

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白倉 光洋

白倉 光洋 について

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白鳥 浩

白鳥 浩 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (6件)： 特許業務法人 津国 ,  津国 肇 ,  柳橋 泰雄 ,  伊藤 佐保子 ,  小澤 圭子 ,  柴田 明夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-268239
公開番号（公開出願番号）：特開2014-115389
出願日： 2012年12月07日
公開日（公表日）： 2014年06月26日
要約：
【課題】 基板の冷却効率を上昇させるとともに、冷却工程において、基板の表面の温度分布が均一な状態を保ったまま基板を冷却することのできる基板冷却装置を提供する。【解決手段】 基板と接触して、前記基板を冷却するための冷却面を有する冷却プレートと、前記冷却プレートの前記冷却面に対向して配置される冷媒ガス冷却ユニットとを含む基板冷却装置であって、前記冷媒ガス冷却ユニットが、冷媒となる冷媒ガスを一時的に貯留する冷媒ガスチャージ空間と、前記冷媒ガスチャージ空間に前記冷媒ガスを供給する冷媒ガス供給口と、前記冷却プレートに対向する前記冷媒ガス冷却ユニットの表面の少なくとも一部に形成された、前記冷媒ガスチャージ空間まで貫通する複数の貫通孔と、を備えることを特徴とする、基板冷却装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板と接触して、前記基板を冷却するための冷却面を有する冷却プレートと、 前記冷却プレートの前記冷却面に対向して配置される冷媒ガス冷却ユニットと を含む基板冷却装置であって、 前記冷媒ガス冷却ユニットが、 冷媒となる冷媒ガスを一時的に貯留する冷媒ガスチャージ空間と、 前記冷媒ガスチャージ空間に前記冷媒ガスを供給する冷媒ガス供給口と、 前記冷却プレートに対向する前記冷媒ガス冷却ユニットの表面の少なくとも一部に形成された、前記冷媒ガスチャージ空間まで貫通する複数の貫通孔と、 を備えることを特徴とする、基板冷却装置。
IPC (3件)：
G03F 1/68 ,  G03F 1/54 ,  G02F 1/13
FI (3件)：
G03F1/68 ,  G03F1/54 ,  G02F1/13 101
Fターム (10件)：
2H088EA68 ,  2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H095BB23 ,  2H095BB37 ,  2H095BB38 ,  2H095BC01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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