特許
J-GLOBAL ID：201403053652337513
マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-121717
公開番号（公開出願番号）：特開2014-239178
出願日： 2013年06月10日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
要約：
【課題】マルチ荷電粒子ビーム描画において、回路設置スペースの制限を維持しながらデータ転送時間によるビーム照射動作の待ち時間を低減或いは回避する。【解決手段】1ショット当りの最大照射時間が、予め設定された桁数の2進数の各桁の値をそれぞれ10進数で定義した場合に、相当する階調値に量子化単位を乗じた照射時間として、かかる桁数個の複数の第1照射時間に分割され、複数の第1照射時間の一部の第2照射時間がさらに複数の第3照射時間に分割された複数の第3照射時間と、分割されなかった残りの複数の第1照射時間とを用いて、ビームのショット毎に、当該ビームの照射を複数の第3照射時間の各照射ステップと分割されなかった残りの複数の第1照射時間の各照射ステップとに分割して、照射ステップの組み合わせにより構成される複数のグループが順に続くように、各照射ステップの照射時間のビームを順に試料に照射する工程とを備える。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
ビームのショット毎に、荷電粒子ビームによるマルチビームの各ビームの照射時間を量子化単位で割った階調値を予め設定された桁数の2進数データに変換する工程と、
ビームの1ショットあたりの最大照射時間が、前記桁数の2進数の各桁の値をそれぞれ10進数で定義した場合に相当する階調値に量子化単位を乗じた照射時間として前記桁数個の複数の第1の照射時間に分割され、前記複数の第1の照射時間の一部の第2の照射時間がさらに複数の第3の照射時間に分割された、前記複数の第3の照射時間と分割されなかった残りの複数の第1の照射時間とを用いて、ビームのショット毎に、当該ビームの照射を前記複数の第3の照射時間の各照射ステップと分割されなかった残りの複数の第1の照射時間の各照射ステップとに分割して、少なくとも2つの照射時間による照射ステップの組み合わせにより構成される複数のグループが順に続くように、グループ毎に当該グループを構成する各照射ステップの照射時間のビームを順に試料に照射する工程と、
を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 541W
, H01L21/30 541J
5F056AA33
, 5F056CA22
, 5F056CA26
, 5F056CB05
, 5F056CD06
, 5F056CD15
