特許
J-GLOBAL ID:201403053688422495

粒子線照射システムおよび治療計画装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 春日 讓 ,  猪野木 雄一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-204767
公開番号(公開出願番号):特開2014-057738
出願日: 2012年09月18日
公開日(公表日): 2014年04月03日
要約:
【課題】スキャニング照射法による粒子線照射システムにおいて、計画通りの線量分布を形成することができ、かつ照射時間(治療時間)を短縮することができる粒子線照射システムおよび治療計画装置を提供する。【解決手段】治療計画装置41の演算装置101が照射位置毎に出射許可範囲を定め、スキャニング照射法による粒子線照射システムの制御装置48が、治療計画装置41の演算装置101が定めた照射位置毎の出射許可範囲を用いて、出射許可範囲の大きさを照射位置毎に変更して照射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを生成して出射する加速器と、 前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する照射装置と、 前記照射標的の位置を計測する標的監視装置と、 前記標的監視装置からの信号に基づき前記照射装置から照射される荷電粒子ビームの照射開始と照射停止を制御するゲート照射を行う制御装置とを備え、 前記制御装置は、前記照射標的に前記荷電粒子ビームを照射するための複数の照射位置に対して、照射位置毎に出射許可範囲が設定されており、 前記制御装置は、前記複数の照射位置のうちの1つの照射位置に前記荷電粒子ビームを照射するとき、前記照射位置毎に設定した出射許可範囲を用い、前記標的監視装置が計算した前記照射標的の位置が前記1つの照射位置に設定された出射許可範囲の中にあるときは前記荷電粒子ビームの照射を開始し、前記照射標的の位置が前記1つの照射位置に設定された出射許可範囲の外にあるときは前記荷電粒子ビームの照射を停止するよう制御することを特徴とする粒子線照射システム。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (2件):
A61N5/10 H ,  A61N5/10 P
Fターム (8件):
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG13 ,  4C082AJ07 ,  4C082AJ14 ,  4C082AN02 ,  4C082AP02
引用特許:
審査官引用 (5件)
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