特許
J-GLOBAL ID：201403055900915718
熱光学素子およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-064771
公開番号（公開出願番号）：特開2014-192247
出願日： 2013年03月26日
公開日（公表日）： 2014年10月06日
要約：
【課題】ヒータにより温度変化させるヒータ領域の下部にのみ断熱層を設けた熱光学素子およびその作成方法を提供すること。【解決手段】前後DBR層104a、104b、活性層105や位相調整層106などの半導体レーザの光導波路コア層より下に犠牲層102がある共振器において、予めヒータ領域の下部のみに犠牲層102を設置する構造とし、電流注入を行う活性層105の下部には犠牲層102が無い構造とする。ヒータ下部の犠牲層102の除去後も活性層105下部に熱伝導性の悪い犠牲層102が残ることが無いため、活性層105への電流注入により発熱しても、熱は基板101下部に伝達される。チップは熱伝導性の良いキャリア等を介してペルチェ素子やヒートシンクに搭載されるため、基板101下部に伝達された熱は速やかに放熱される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
半導体基板上に光導波路が形成された熱光学素子であって、
前記光導波路上に設けられ、前記光導波路の一部領域であるヒータ領域の温度を変化させるヒータと、
前記光導波路のコアを挟んで前記ヒータと対向する前記光導波路のクラッド内の位置に設けられ、前記光導波路の長手方向の長さが前記ヒータ領域に含まれる前記光導波路のコアの前記長手方向の長さ以下である、前記光導波路のクラッドよりも熱伝導率が低い断熱層と、
を備えたことを特徴とする熱光学素子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
5F173AB04
, 5F173AB23
, 5F173AB44
, 5F173AB49
, 5F173AF08
, 5F173AG20
, 5F173AH12
, 5F173AP32
, 5F173AP37
, 5F173AR06
