特許
J-GLOBAL ID:201403057283848105
組織の均一性が改善された高融点金属プレート
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 良太
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-143996
公開番号(公開出願番号):特開2014-012893
出願日: 2013年07月09日
公開日(公表日): 2014年01月23日
要約:
【課題】タンタル又は、他の高融点金属のプレート並びにスパッタリング用ターゲットにおいて成膜する膜の膜厚の予測可能性および均一性をかなり改善し、このため、ターゲットの使い勝手を向上させる。【解決手段】高融点金属プレートが提供される。前記プレートは、中心、板厚、端部、上面および裏面を有し、前記プレートにわたって実質的に均一な結晶組織(100//ND組織成分および111//ND組織成分のそれぞれについて、板厚方向勾配、帯形成度およびプレート内変動によって特徴付けられる)を有する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
中央、板厚、端部、上面および裏面を有する高融点金属プレートであって、前記高融点金属プレートは、前記プレートにわたって実質的に均一な結晶組織(100//ND組織成分および111//ND組織成分のそれぞれについて、板厚方向勾配、帯形成度およびプレート内変動によって特徴付けられる)を有する高融点金属プレート。
IPC (4件):
C22F 1/18
, C23C 14/34
, B22F 3/11
, B22F 3/24
FI (6件):
C22F1/18 G
, C23C14/34 A
, C22F1/18 F
, B22F3/11 Z
, B22F3/24 C
, B22F3/24 F
Fターム (12件):
4K018AA40
, 4K018BA20
, 4K018CA23
, 4K018EA13
, 4K018FA01
, 4K018FA09
, 4K018KA29
, 4K029BA02
, 4K029BA16
, 4K029DC03
, 4K029DC07
, 4K029DC08
引用特許: