特許

J-GLOBAL ID：201403058142909824

多孔性金属錯体

発明者： 渡部 大輔 ,  大島 伸司 ,  北川 進 ,  堀毛 悟史 ,  樋口 雅一
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社 ,  国立大学法人京都大学
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-069885
公開番号（公開出願番号）：特開2014-193814
出願日： 2013年03月28日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
要約：

【課題】 水素吸蔵材料として有用であり、保存安定性に優れた多孔性金属錯体を提供すること。【解決手段】 金属クラスターと下記一般式(1)で表される芳香族カルボン酸との配位結合によって構成される金属錯体を含み、該金属錯体の複数が集積して形成された細孔構造を有する多孔性金属錯体。 【化1】[式中、mは1〜3の整数を示す。]【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

金属クラスターと下記一般式(1)で表される芳香族カルボン酸との配位結合によって構成される金属錯体を含み、該金属錯体の複数が集積して形成された細孔構造を有する多孔性金属錯体。

IPC (2件)：

C07C 63/42 ,  C07C 65/105

FI (2件)：

C07C63/42 ,  C07C65/105

Fターム (17件)：

4G066AA53A ,  4G066AB06A ,  4G066AB06B ,  4G066AB07A ,  4G066AB07B ,  4G066AB24B ,  4G066BA22 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA38 ,  4G066DA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AC90 ,  4H048AA01 ,  4H048VA20 ,  4H048VA66 ,  4H048VB10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多孔性金属錯体及びその製造方法、ガス吸着方法並びにガス分離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-142926   出願人：JX日鉱日石エネルギー株式会社, 国立大学法人京都大学
• 結晶中に特別なレベルの表面積および気孔率を達成するための方法の実施
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-532890   出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブミシガン