特許

J-GLOBAL ID：201403061515438232

半導体装置

発明者： 金子 健太郎 ,  人羅 俊実 ,  平尾 孝
出願人/特許権者： ROCA株式会社
代理人 (3件)： SK特許業務法人 ,  奥野 彰彦 ,  伊藤 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-212623
公開番号（公開出願番号）：特開2014-072533
出願日： 2013年10月10日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：

【課題】良質なコランダム型結晶膜を形成する半導体装置を提供する。【解決手段】本発明によれば、コランダム型結晶構造を有する下地基板とコランダム型結晶構造を有する半導体層、コランダム型結晶構造を有する絶縁膜とから形成される半導体装置が提供される。コランダム型の結晶構造を持つ材料のなかには酸化膜が多く含まれ、絶縁膜としての機能を果たすことができることのみならず、下地基板、半導体層および絶縁膜がすべてコランダム型の結晶構造を有していることにより下地基板上に良質な半導体層、絶縁膜を実現することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

コランダム型結晶構造を有する下地基板とコランダム型結晶構造を有する半導体層、コランダム型結晶構造を有する絶縁膜とから形成される半導体装置。

IPC (6件)：

H01L 29/24 ,  C30B 29/22 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/78 ,  H01L 21/336

FI (5件)：

H01L29/24 ,  C30B29/22 501A ,  H01L21/205 ,  H01L21/20 ,  H01L29/78 301B

Fターム (35件)：

4G077AA03 ,  4G077BC11 ,  4G077DB01 ,  4G077ED06 ,  4G077EF03 ,  4G077EF04 ,  4G077HA06 ,  4G077TA04 ,  4G077TC14 ,  4G077TK01 ,  5F045AB40 ,  5F045AF09 ,  5F045BB17 ,  5F045DA62 ,  5F140AA24 ,  5F140AA25 ,  5F140AA34 ,  5F140AC36 ,  5F140BA00 ,  5F140BA02 ,  5F140BA16 ,  5F140BD01 ,  5F140BD04 ,  5F152LN02 ,  5F152LN14 ,  5F152LN19 ,  5F152MM18 ,  5F152NN03 ,  5F152NN05 ,  5F152NN12 ,  5F152NN13 ,  5F152NN14 ,  5F152NN19 ,  5F152NP13 ,  5F152NQ01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体装置およびその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-241761   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• 半導体膜、半導体素子、半導体装置およびそれらの作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-255776   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• 特許第4083396号