特許
J-GLOBAL ID：201403063745132364

EUVリソグラフィ用のミラーの基板

発明者：
クラウディア エクスタイン

クラウディア エクスタイン について

, 
ホルガー マルトア

ホルガー マルトア について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー について


代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-549778
公開番号（公開出願番号）：特表2014-506724
出願日： 2012年01月14日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：
EUV波長範囲の波長で用いるミラーに適した基板は、ベース体(2)を備えた基板(1)であり、ベース体(2)は、析出硬化型合金、合金系の金属間化合物相、粒子複合材、又は対応の合金系の状態図において相安定線で囲まれた領域にある組成を有する合金からなる。ベース体(2)が析出硬化型の銅又はアルミニウム合金からなることが特に好ましい。さらに、高反射層(6)をEUVミラー(5)の基板(1)の研磨層(3)上に設ける。【選択図】図2a
請求項（抜粋）：
ベース体を備えたEUVリソグラフィ用のミラーの基板であって、前記ベース体(2)は、析出硬化型合金からなることを特徴とする基板。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 531A
Fターム (2件)：
5F146GA21 ,  5F146GB14
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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