特許
J-GLOBAL ID：201403063900424210
リソグラフィ原版検査装置、リソグラフィ原版検査方法、及びパターンデータ作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
勝沼 宏仁
, 佐藤 泰和
, 川崎 康
, 関根 毅
, 重野 隆之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-032304
公開番号（公開出願番号）：特開2014-165203
出願日： 2013年02月21日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：
【課題】微細な欠陥を検出する。【解決手段】本実施形態によれば、リソグラフィ原版検査方法は、第1凹凸パターンを有する第1リソグラフィ原版に樹脂を塗布し、前記樹脂を硬化し、硬化した前記樹脂を前記第1リソグラフィ原版から剥離して前記第1凹凸パターンに対応する第2凹凸パターンを有する第2リソグラフィ原版を作製し、前記第2リソグラフィ原版を拡大させる。拡大した前記第2リソグラフィ原版における欠陥を検出し、検出した欠陥の位置から、前記第1リソグラフィ原版における欠陥の位置を算出する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
第1アライメントマークを含む第1凹凸パターンを有する第1リソグラフィ原版に樹脂を塗布し、
前記樹脂を硬化し、
硬化した前記樹脂を前記第1リソグラフィ原版から剥離して前記第1凹凸パターンに対応する第2凹凸パターンを有する第2リソグラフィ原版を作製し、
前記第2リソグラフィ原版を拡大させ、
前記第1リソグラフィ原版の設計データから参照画像を生成し、前記第2リソグラフィ原版の拡大に伴う形状変化、前記第1凹凸パターンのパターン密度及びパターン種に基づいて前記参照画像を補正し、
拡大した前記第2リソグラフィ原版を撮像した画像と、補正された前記参照画像とを比較し、不一致箇所を欠陥として検出し、
前記第1アライメントマークの座標、及び拡大した前記第2リソグラフィ原版における前記第1アライメントマークに対応する第2アライメントマークの座標から前記第2リソグラフィ原版の拡大率を求め、
検出した欠陥の位置及び前記拡大率に基づいて、前記第1リソグラフィ原版における欠陥の位置を算出するリソグラフィ原版検査方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/84
, B29C 59/02
H01L21/30 502D
, G03F1/84
, B29C59/02 Z
2H095BA12
, 2H095BD04
, 2H095BD13
, 2H095BD17
, 2H095BD22
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AP06
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PW26
, 5F146AA18
, 5F146AA25
, 5F146AA32
