特許
J-GLOBAL ID：201403064616233525
レジスト組成物、レジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-041066
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130308
出願日： 2013年03月01日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：
【課題】現像液に対する溶解性を向上させ、リソグラフィー特性を改善するレジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。【解決手段】露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有し、(A)が、式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、ラクトン含有環式基、-SO2-含有環式基またはカーボネート含有環式基を含む構成単位(a2)と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、(A1)の重量平均分子量が6000以下であるレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光により酸を発生し、且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有し、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される化合物から誘導される構成単位(a0)と、ラクトン含有環式基、-SO2-含有環式基またはカーボネート含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、前記高分子化合物(A1)の重量平均分子量が6000以下であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039
, G03F 7/038
, C08F 220/28
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, C08F220/28
, H01L21/30 502R
2H125AF16P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF41P
, 2H125AF43P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ18X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL11
, 2H125AN02P
, 2H125AN21P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN54P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CC17
, 2H125CD08P
, 2H125CD37
, 2H125FA03
, 2H125FA05
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BA11P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100CA05
, 4J100JA38
