特許
J-GLOBAL ID：201003025980831913

化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
杉原 昌子

杉原 昌子 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-069580
公開番号（公開出願番号）：特開2010-256874
出願日： 2010年03月25日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】優れた解像度、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸に不安定な基及びラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位(b3-2)を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。構造単位(b3-2)の好ましい例は、酸の作用によりカルボキシ基を生じ且つラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、 前記樹脂が、酸に不安定な基及びラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位(b3-2)を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/039 ,  C08F 20/28 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  C07D 307/00 ,  C08K 5/41 ,  C08L 33/14
FI (9件)：
G03F7/039 601 ,  C08F20/28 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 511 ,  C07D307/00 ,  C08K5/41 ,  C08L33/14
Fターム (55件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF37P ,  2H125AF38P ,  2H125AH11 ,  2H125AH17 ,  2H125AH20 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C037AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006TN10 ,  4H006TN60 ,  4J002BG071 ,  4J002EV216 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AL16P ,  4J100AL16Q ,  4J100AL16R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA23P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC58P ,  4J100BC58R ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC07 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (13件)
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