特許
J-GLOBAL ID：201403065226161341
極端紫外光源装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
保坂 延寿
, 新井 信昭
, 宇都宮 正明
, 渡部 温
, 柳瀬 睦肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-016309
公開番号（公開出願番号）：特開2013-084993
特許番号：特許第5588032号
出願日： 2013年01月31日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ターゲットにレーザ光を照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバ内のプラズマ発光点にターゲットを供給するターゲット供給装置と、
前記ターゲット供給装置によって供給されるターゲットにレーザ光を照射して、前記プラズマ発光点において第1のプラズマを生成するドライバレーザと、
前記チャンバ内に設置され、第1のプラズマから放射される極端紫外光を集光する集光ミラーと、
前記チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、
前記プラズマ発光点が中心となるように配置されたRF(高周波)アンテナを含み、前記ガス供給装置によって供給されるガス及び電気的に中性のターゲット物質を励起して、第1のプラズマが生成される領域の周囲に、第1のプラズマから放出されるデブリの内で電気的に中性のデブリを帯電させる第2のプラズマを生成する高周波励起装置と、
第2のプラズマによって帯電したデブリの移動方向を制限する磁場を発生する磁場発生装置と、
前記チャンバ内を排気することにより、第1のプラズマから放出され第2のプラズマにおいてガス化されたデブリを前記チャンバ外に排出する排気装置と、
を具備する極端紫外光源装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H05G 2/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 531 S
, H01L 21/30 531 A
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, H05G 1/00 K
