特許
J-GLOBAL ID：201403066730618758
リソグラフィ装置およびリソグラフィ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-167153
公開番号（公開出願番号）：特開2013-046060
特許番号：特許第5574549号
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2013年03月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ装置であって、
放射ビームを供給する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスと、
基板を保持する基板ホルダと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備え、
前記リソグラフィ装置は、
第1方向の明視野強度分布と、
前記第1方向に略垂直な第2方向の暗視野強度分布と、を有する放射を用いて、少なくとも使用中、パターンを前記基板上に結像し、
前記パターニングデバイスは、前記基板上に結像されるラインアンドスペースパターンであって、1つ以上のラインと各々がラインを分断する1つ以上のギャップとを備えるラインアンドスペースパターンを与えるように構成され、
前記1つ以上のラインは、前記第2方向に延在し、
前記1つ以上のギャップは、前記第1方向に延在する1つ以上のコンポーネントを有する、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G02B 19/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
, G02B 19/00
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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