特許
J-GLOBAL ID：201403075225251687
ガス供給装置及び成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-142063
公開番号（公開出願番号）：特開2014-007289
出願日： 2012年06月25日
公開日（公表日）： 2014年01月16日
要約：
【課題】液体原料の液面レベルが変化しても発生する原料ガス量を安定化させることが可能なガス供給装置を提供する。【解決手段】原料ガス供給系を有するガス供給装置において、原料貯留槽と、原料ガスを発生させる主加熱手段と、天井加熱手段と、主温度測定手段と、天井温度測定手段と、液相温度測定手段と、気相温度測定手段と、レベル測定手段と、温度制御部とを備え、主温度測定手段と液相温度測定手段の各測定値と予め定められた設定温度に基づいて第2工程へ移行するか否かの判断をし、第2工程へ移行しない時には設定温度に基づいて主加熱手段と天井加熱手段を制御する第1工程と、主温度測定手段と液相温度測定手段と気相温度測定手段とレベル測定手段の各測定値に基づいて制御温度を求め、この制御温度に基づいて主加熱手段と天井加熱手段を制御する第2工程を行うように動作させる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被処理体に対して成膜処理を施す処理容器に向けてキャリアガスに随伴された原料ガスを流す原料ガス供給系を有するガス供給装置において、
キャリアガスを導入するガス入口と前記キャリアガスに随伴された原料ガスを流すガス通路に接続されるガス出口とを有して内部に液体原料を貯留する原料貯留槽と、
前記原料貯留槽の底部と側部を加熱して原料ガスを発生させる主加熱手段と、
前記原料貯留槽の天井部を加熱する天井加熱手段と、
前記主加熱手段が設けられる部分の温度を測定する主温度測定手段と、
前記天井加熱手段が設けられる部分の温度を測定する天井温度測定手段と、
前記原料貯留槽内の前記液体原料の温度を測定する液相温度測定手段と、
前記原料貯留槽内の上部の気相部の温度を測定する気相温度測定手段と、
前記液体原料の液面レベルを測定するレベル測定手段と、
前記主加熱手段と前記天井加熱手段とを制御する温度制御部とを備え、
前記温度制御部は、
前記主温度測定手段の測定値と前記液相温度測定手段の測定値と予め定められた設定温度に基づいて第2工程へ移行するか否かの判断をし、前記第2工程へ移行しないと判断した時には前記設定温度に基づいて前記主加熱手段と前記天井加熱手段を制御する第1工程と、
前記主温度測定手段と前記液相温度測定手段と前記気相温度測定手段と前記レベル測定手段の各測定値に基づいて制御温度を求めると共に前記制御温度に基づいて前記主加熱手段と前記天井加熱手段を制御する第2工程を行うように動作させることを特徴とするガス供給装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/31 B
, C23C16/448
, H01L21/31
4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030BA22
, 4K030BA42
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA01
, 4K030FA10
, 4K030GA04
, 4K030GA05
, 4K030KA04
, 4K030KA23
, 4K030LA15
, 5F045AA04
, 5F045AB31
, 5F045AC08
, 5F045AC11
, 5F045AD06
, 5F045AE19
, 5F045AE21
, 5F045DP19
, 5F045DP28
, 5F045EE02
, 5F045EE19
, 5F045EF03
, 5F045EF09
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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