スパッタリング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田正義 , 今枝弘充 , 梅村裕明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-065989
公開番号（公開出願番号）：特開2013-253316
出願日： 2013年03月27日
公開日（公表日）： 2013年12月19日
要約：

【課題】さまざまなターゲットにおいても成膜中のターゲットと基板の配置を最適化することができるスパッタリング装置を提供する。【解決手段】スパッタリング装置100は、基板130を載置する載置面を有する基板保持台131と、ターゲット102と基板保持台131の間に設けられた開口部113を有するマスクアセンブリ109Aとを備え、前記マスクアセンブリ109Aは、前記基板保持台131に対し平行に配置された第1遮蔽部110と第2遮蔽部111とを有し、前記第1遮蔽部110と前記第2遮蔽部111の対向する辺の間に前記開口部113が形成され、前記第1遮蔽部110と前記第2遮蔽部111は、前記ターゲット102の長辺に対し垂直方向でかつ前記載置面に平行な方向に、又は、前記載置面に垂直な方向に、独立して移動可能に設けられている。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板上に磁気層を形成するスパッタリング装置において、真空容器内に設けられ、表面が矩形状のターゲットを保持するターゲット保持部と、前記ターゲット保持部の裏面に配置された磁石ユニットと、前記基板を載置する載置面を有する基板保持台と、前記ターゲットと前記基板保持台の間に設けられた開口部を有するマスクアセンブリと、前記基板保持台と前記ターゲット保持部を相対的に、かつ前記載置面に平行に移動させる移動機構とを備え、前記マスクアセンブリは、前記載置面に対し略平行に配置された第1遮蔽部と第2遮蔽部とを有し、前記第1遮蔽部と前記第2遮蔽部の対向する辺の間に前記開口部が形成され、前記第1遮蔽部と前記第2遮蔽部は、前記ターゲットの長辺に対し略垂直方向でかつ前記載置面に平行な方向に、又は、前記載置面に略垂直な方向に、独立して移動可能に設けられることを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , H01F 41/18

FI (2件)：

C23C14/34 G , H01F41/18

Fターム (19件)：

4K029AA02 , 4K029AA07 , 4K029AA24 , 4K029BA24 , 4K029BA25 , 4K029BA26 , 4K029BB02 , 4K029BC06 , 4K029BD11 , 4K029CA05 , 4K029DA13 , 4K029DC04 , 4K029DC12 , 4K029DC16 , 4K029DC21 , 4K029DC22 , 4K029DC43 , 4K029HA03 , 5E049GC01

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-202466
特開平3-202466
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-050674 出願人：株式会社シンクロン

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