特許
J-GLOBAL ID：201403077779179115

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
吉田 昌史

吉田 昌史 について

, 
坂本 宏

坂本 宏 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-063283
公開番号（公開出願番号）：特開2014-224991
出願日： 2014年03月26日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)のレジストパターンを製造可能なレジスト組成物に用いられる塩を提供する。【解決手段】酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、カルボン酸オニウム塩及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式(II)中、R3は、炭素数1〜24の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂、カルボン酸オニウム塩及び式(II)で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  C07D 327/06 ,  C07D 311/00
FI (7件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  C07D327/06 ,  C07D311/00
Fターム (29件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C062KK03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81
引用特許：
審査官引用 (3件)

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