特許
J-GLOBAL ID：201403078508409111
3-アミノフェノールの製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
大島 正孝
, 白石 泰三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-041026
公開番号（公開出願番号）：特開2014-133730
出願日： 2013年03月01日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
要約：
【課題】1,3-ジニトロベンゼンから3-ニトロアニリンを還元反応における水素消費量を抑制して工業的に有利に高収率で製造し、次いで、3-ニトロアニリンから3-ニトロフェノールを経て、3-アミノフェノールを高収率で得る新規な方法を提供する。【解決手段】1,3-ジニトロベンゼンを、パラジウム触媒とジエチルアミンの存在下、水素還元反応させ3-ニトロアニリンを生成し、ジアゾ化し加水分解してする3-アミノフェノールの製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
1,3-ジニトロベンゼンを、パラジウム触媒およびジエチルアミンの存在下、水素により還元して3-ニトロアニリンを生成し、該3-ニトロアニリンを亜硝酸ナトリウムにてジアゾ化した後加水分解せしめて3-ニトロフェノールを生成し、次いで該3-ニトロフェノールを水素還元せしめることを特徴とする3-アミノフェノールの製造方法。
IPC (2件)：
C07C 213/02
, C07C 215/76
4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA25
, 4H006BA55
, 4H006BE20
, 4H006BJ50
, 4H006BN30
, 4H006BU46
, 4H039CA71
, 4H039CB40
